Die Unterschiede zwischen einem Patent und einem Gebrauchsmuster sind relativ gering. Mit beiden Schutzrechtsarten können technische Gegenstände vor Nachahmung geschützt werden.
Ästhetische Formschöpfungen sind daher einem Patent- oder einem Gebrauchsmusterschutz nicht zugänglich. Werke, wie ein Musikstück oder ein Buch werden durch das Urheberrecht geschützt und benötigen keinen Patent- oder Gebrauchsmusterschutz.
Gebrauchsmuster
Ein Gebrauchsmuster dient dem Schutz einer technischen Vorrichtung oder einem Gegenstand. Mit einem Gebrauchsmsuter kann kein Verfahren geschützt werden. Der Schutz einer Software wird daher eher mit einem Patent als mit einem Gebrauchmuster gelingen. Allerdings können Datenformate bzw. Datenkolonnen sehr wohl mit einem Gebrauchsmuster wirksam geschützt werden. Ein großer Vorteil des Gebrauchsmusters stellt die 6-monatige Neuheitsschonfrist dar. Hierdurch werden eigene Veröffentlichungen des Anmelders bei der Prüfung auf Neuheit und erfinderischen Schritt nicht berücksichtigt, solange sie nicht länger als 6 Monate vor dem Anmeldetag der Öffentlichkeit zugänglich gemacht wurden. Im Gegensatz zu einem Patent weist das Gebrauchsmuster nur eine 10-jährige maximale Laufzeit auf.
Patent
Mit einem Patent haben Sie sämtliche Möglichkeiten für Ihre unternehmerische Aktivitäten. Sie können sofort mit Anmeldung Ihrer Erfindung zum Patent Prüfungsantrag stellen (oder Rechercheantrag), um sehr schnell Klarheit über die Patentfähigkeit zu erhalten. Alternativ können Sie auch bis zu 7 Jahre Ihre Anmeldung "liegen lassen". Diese Vorgehensweise bietet sich beispielsweise bei "Vorratserfindungen" oder "Sperrerfindungen" an, die erst zukünftig genutzt werden sollen. Ein großer Vorteil des Patentrechts ist die lange maximale Laufzeit von 20 Jahren. Bitte bedenken Sie, dass Sie aus einer Patentanmeldung zu jeder Zeit ein Gebrauchsmuster "abzweigen" können, beispielsweise um gegen eine konkrete Verletzung Ihrer Erfindung vorgehen zu können.
